인하대학교가 교내에 반도체 공정이 가능한 330㎡ 규모의 클린룸을 설치한다고 10일 밝혔다.

반도체 공정 클린룸 구축은 LINC+ 사회맞춤형학과 중점형사업 중 하나로, 인하대 2호관 공과대학 건물 1층에 330㎡ 규모로 들어선다. 다음 달 완공 예정이다.

클린룸에는 CMOS(Complementary metal-oxide semiconductor) 반도체 집적소자 제작이 가능한 다양한 장비와 중앙 공급식 설비가 설치된다. 마이크로미터 이하로 패턴 형성이 가능한 노광장비를 비롯해 박막 증착장비, 식각장비 등 반도체공정용 장비 10여 종이 들어선다.

청정도 등급(Cleanliness Class)은 1제곱피트 당 0.5마이크로미터 이상의 입자가 100~1천 개 이하로 제어되는 것을 의미한다. 머리카락 200분의 1 크기 입자를 관리할 수 있다. 다른 대학 클린룸보다 높은 수준의 청정도 관리가 가능하다. 클린룸 구축으로 반도체 공정과 장비 전공에 참여하는 학과의 융합 연구가 활발하게 이뤄질 것으로 보고 있다. 인하대는 현재 8개 실습 교과목을 포함해 모두 63개 전공 교과목을 운영하고 있다. 또 기업 재직자 실무교육을 통한 관련 분야 인력 역량을 강화하고 있다.

인하대 최리노(반도체공정·장비전공)교수는 "다양한 반도체 공정이 가능한 클린룸 구축은 관련 학과 학생들의 실무 역량을 높여 수도권 반도체 관련 기업의 인력난 해소와 산업 발전에 기여할 것"이라며 "클린룸 구축으로 현장미러형실습센터가 완성되면 해당 분야 연구도 지금보다 더 활발할 것"이라고 강조했다.

한편, 인하대는 현재 현장미러형실습센터를 운영하고 있다. 지난해 교내에 설치된 첨단소재분석 실습실과 첨단소재공정 실습실에 클린룸을 더해 3개 공간으로 조성된다.

 최유탁 기자 cyt@kihoilbo.co.kr


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