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SK하이닉스가 사내 기술 교류의 장을 마련, 기술 기반의 성장을 더욱 가속화하기 위해 학술대회를 개최했다.
1일 SK하이닉스에 따르면 연구개발 및 제조 등 기술 분야 임직원들 간의 활발한 학술 교류를 통해 미래 기술의 한계를 극복하고 동시에 엔지니어의 역량을 강화하기 위한 목적으로 지난달 30일 이천본사 인력개발원에서 ‘제2회 SK하이닉스 학술대회’를 개최했다.
올해 학술대회는 ‘한계를 넘어라(Break through the Limit)’라는 주제로 지난해 소자·공정, 설계·솔루션, 제품·응용기술, 차세대 제품 등 4개 분과에 제조·품질을 추가해 총 5개 분과로 구성됐다.
이 자리에는 박성욱 CEO를 비롯해 제조·기술부문장 오세용 사장, DRAM개발부문장 김용탁 부사장 등 주요 경영진도 참석해 임직원들을 격려했다.
이날 미세공정 진화에 따른 특성 확보의 어려움을 극복하기 위해 ‘D램 신뢰성 향상 방안’을 연구한 미래기술연구원 권일웅 책임과 원가경쟁력 강화에 대한 활용성을 부각한 ‘낸드플래시 회로 면적 감소’ 논문을 발표한 NAND총괄본부 강진성 책임이 각각 대상과 금상을 차지했다.
대상은 1천만 원의 상금이 주어졌고, 분과별 우수 논문 수상자 등에게는 총 2천만 원 규모의 상금과 해외 주요 학술대회 참관 기회가 부상으로 제공됐다.
이번 대회 상임위원장을 맡은 DRAM개발부문장 김용탁 부사장은 “이번 학술대회에서는 학술적 가치뿐만 아니라 개발에 접목 가능한 논문들을 다수 발견해 의미가 있었다”며 “향후에도 임직원들 상호 간의 기술 교류를 더욱 활성화하고 발전적인 경쟁을 유도해 기술기반의 성장을 촉진할 계획이다”라고 말했다.
한편, 천 즈치앙(T. C. Chen)IBM연구소 부사장이 참석해 ‘엑사스케일 컴퓨팅시대를 위한 소자 개발 도전(Device Research Challenges for Exa-scale Computing Era)’이란 주제로 기조연설을 진행해 대회의 의미를 더했다.
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